晶體&pic=http://www.e3i5w.cn/upload/images/site/20240521/17162563772507049.png)
Helma Materials 是德國一家專注于先進材料研發(fā)與制造的公司，致力于為高科技行業(yè)提供高性能的材料解決方案。
Helma Materials的氟化鈣（CaF?）晶體是一種高性能光學(xué)材料，專為深紫外（DUV/VUV）、可見光（VIS）和紅外（IR）應(yīng)用設(shè)計，具有以下核心特性：
超寬透光范圍：130 nm（真空紫外）至9 μm（紅外）。
高激光耐受性：適用于高能準(zhǔn)分子激光（如193 nm ArF、248 nm KrF）。
低應(yīng)力雙折射：確保光學(xué)系統(tǒng)成像精度。
高折射率均勻性：減少光路畸變。
主要應(yīng)用領(lǐng)域：
半導(dǎo)體光刻：光刻機透鏡、激光光束傳輸系統(tǒng)。
激光光學(xué)：準(zhǔn)分子激光器、醫(yī)療激光設(shè)備。
成像與傳感：天文望遠(yuǎn)鏡、紅外傳感器、光譜儀。
根據(jù)文檔內(nèi)容，選型需重點關(guān)注以下參數(shù)：
參數(shù) | 典型值/范圍 | 說明 |
透光率（10 mm厚度） | >99.8%（248 nm）、>99.7%（193 nm） | 波長越短（如157 nm），透光率略降低，需根據(jù)應(yīng)用波長選擇。 |
折射率均勻性（PV值） | 1–15 ppm（@633 nm） | 值越小，光學(xué)均勻性越高，適合高精度透鏡。 |
應(yīng)力雙折射 | 1–20 nm/cm（@633 nm） | 低值減少偏振敏感性問題，關(guān)鍵用于激光光學(xué)。 |
激光損傷閾值 | ~7 J/cm2（@193 nm） | 高能激光應(yīng)用中需優(yōu)先考慮。 |
參數(shù) | 典型值 | 說明 |
晶體取向 | <111>、<100>、隨機 | <111>取向激光耐受性最佳，<100>取向機械加工性更好。 |
尺寸規(guī)格 | 直徑≤440 mm，厚度≤80 mm | 光刻機透鏡常用350 mm直徑，激光光學(xué)組件通?！?00 mm。 |
表面處理 | 拋光（精密光學(xué)）、粗磨（基材） | 拋光表面用于成像系統(tǒng)，粗磨表面可后續(xù)定制加工。 |
硬度（莫氏） | 4.0 | 低于熔融石英（7.0），需避免機械刮擦。 |
參數(shù) | 等級/數(shù)值 | 說明 |
耐酸/堿等級 | SR 4.5（耐酸）、AR 2.3（耐堿） | 濕法工藝中需注意化學(xué)兼容性。 |
熱膨脹系數(shù) | 18.5×10??/K（20–25°C） | 高溫環(huán)境下需匹配其他光學(xué)材料的熱膨脹行為。 |
明確應(yīng)用場景：
光刻機透鏡 → 優(yōu)先選擇高透光率（>99.7%@193 nm）+ 低應(yīng)力雙折射（<5 nm/cm）。
激光光學(xué) → 關(guān)注激光損傷閾值（LD-A級最優(yōu)）+ <111>晶體取向。
紅外傳感器 → 選擇IR級（0.78–9 μm）透光材料。
匹配尺寸與工藝：
直徑/厚度需適配設(shè)備空間（如光刻機常用350 mm圓片）。
表面處理按需求選擇：拋光（直接使用）或粗磨（需二次加工）。
驗證環(huán)境兼容性：
高濕度環(huán)境需確認(rèn)防潮性能（CaF?微溶于水）。
化學(xué)工藝中檢查耐酸/堿等級（如濕法刻蝕設(shè)備）。
4. 注意事項激光參數(shù)匹配：若用于準(zhǔn)分子激光，需提供波長、能量密度、脈沖頻率等參數(shù)，Helma可提供定制化激光耐久性分類（LD-A至LD-D級）。
溫度敏感性：折射率隨溫度變化（Δn/ΔT≈-10×10??/K），高溫應(yīng)用中需光學(xué)補償設(shè)計。
替代材料對比：與熔融石英（SiO?）相比，CaF?在紫外波段透光率更高，但機械強度較低。
型號 | 主要特性 | 典型應(yīng)用 |
CaF2-UV | - 高紫外透過率（120nm-8μm） | UV 光學(xué)系統(tǒng)、準(zhǔn)分子激光 |
CaF2-IR | - 優(yōu)化紅外波段透過率（1-8μm） | IR 窗口、熱成像光學(xué) |
CaF2-POL | - 精密拋光（λ/4 表面精度） | 激光透鏡、棱鏡 |
型號 | 主要特性 | 典型應(yīng)用 |
CaF2-LDT | - 高抗激光損傷（>10 J/cm2 @ 193nm） | 準(zhǔn)分子激光、高功率激光系統(tǒng) |
CaF2-EXCIMER | - 專為 193nm/248nm 優(yōu)化 | 半導(dǎo)體光刻、DUV 光學(xué) |
型號 | 主要特性 | 典型應(yīng)用 |
CaF2-EP | - 電子級純度（金屬雜質(zhì) <1ppm） | 半導(dǎo)體設(shè)備、真空紫外（VUV）光學(xué) |
CaF2-VUV | - 深紫外（120-200nm）高透過率 | 同步輻射、VUV 光譜學(xué) |
.支持定制參數(shù)：
。尺寸（直徑、厚度）
。晶體取向（<111>, <100>, <110>）
。鍍膜（抗反射膜、增透膜等）
。表面精度（λ/2, λ/4, λ/10）
